令和3年度 問24

薄膜形成技術の1つにPVD（物理的堆積法）技術がある。次の記述のうち、最も不適切なものはどれか。

1. 真空蒸着法は、原料物質を加熱して蒸発させ、基板表面で凝結、固化させ薄膜にする方法である。
2. 電子ビーム蒸着法は、電子ビームの照射により原料の加熱蒸発を行う真空蒸着法の一種である。
3. スパッタリング法は、プラズマ中で大きな運動エネルギーを持ったガス分子が目的物質表面に衝突したときに運動量交換により固体原子が表面から飛び出す現象を利用して、その高エネルギー粒子を膜として堆積する方法である。
4. イオンプレーティング法は、真空蒸着装置に低圧のガスを導入し、プラズマを発生させ、生成した金属イオンを基板に向かって加速して密着させる方法である。
5. MBE（分子線エピタキシー）法は、超高真空中で、薄膜を構成する元素を含む原料を微少量のガス状に気化した高エネルギー粒子を、基板表面に堆積させる方法である。

解答解説

正答は5番です。