薄膜形成技術の1つにPVD（物理的堆積法）技術がある。次の記述のうち、最も不適切なものはどれか。
- 真空蒸着法は、真空中で原料物質を加熱蒸発させ、基板表面上に薄膜を得る方法である。
- 電子ビーム蒸着法は、電子ビームの照射により原料の加熱蒸発を行う真空蒸着法の一種である。
- MBE（分子線エピタキシー）法は、超高真空中で、薄膜を構成する元素を含む原料を独立したるつぼに入れて加熱し、原料を分子線として基板へ供給して結晶薄膜を成長させる方法である。
- イオンプレーティング法は、真空蒸着装置中の蒸発源から蒸発させた原料をプラズマ中でイオン化し、そのまま高密度に蒸着する方法である。
- スパッタリング法は、プラズマ中で大きな運動エネルギーを持ったガス分子が目的物質表面に衝突したときに、運動量交換により固体原子が表面から飛び出す現象を利用して、その高エネルギー粒子を膜にする方法である。
解答解説
正答は4番です。
