平成23年度 問22

薄膜形成技術の1つにPVD （物理（的）堆積法）技術がある。次の記述のうち、誤っているものはどれか。

1. 真空蒸着法は、原料物質を加熱して蒸発させ、基板表面で凝結、固化させ薄膜にする方法である。
2. 分子線エピタキシー法（MBE）は、薄膜を構成する元素を含む原料をガス状にして輸送し、気相あるいは基板表面での反応を利用して薄膜を堆積させる方法である。
3. 電子ビーム蒸着法は、蒸発原料の加熱を電子ビームを照射することにより行う真空蒸着法である。
4. イオンプレーティング法は、真空蒸着装置に低圧のガスを導入し、プラズマを発生させて蒸発源から蒸発した原料をイオン化して蒸着する方法である。
5. スパッタリング法は、大きな運動量を持った原子や分子が固体に衝突したときに運動量交換により固体原子が表面から飛び出す現象を利用した方法である。

解答解説

正答は2番です。